Готовый перевод Integrated Microelectronic Devices / Встраиваемые микроэлектронные устройства: 3
Лекция 3 – Статистика носителей в равновесии
9 февраля 2007г.
Содержание:
1. Концентрация равновесных электронов
2. Концентрация равновесных дыр;
3. np результат в равновесии
4. Положение уровня Ферми.
Основные вопросы
• Сколько электронов и дыр находятся в термальном равновесии в заданном полупроводнике?
• Как выглядит распределение равновесных электронов (или дыр) в зоне проводимости (валентности)?
• Как можно рассчитать ni?
• Где находится уровень Ферми в заданном полупроводнике? Как его положение влияет на уровень легирования?
Статистика носителей в равновесии
Вопрос: сколько электронов и дыр находятся в TE (термальное равновесие) в заданном полупроводнике?
Ответ: вид строгой модели использования энергии полупроводников и общее представление уровня Ферми.
Порядок ответа на вопрос:
1. Вывести связи между no и EF
2. Вывести связи между po и EF
3. Вывести выражения для nopo и ni
4. Найти положение EF из дополнительных переменных (таких как нейтральность зарядов)
1. Концентрация равновесных электронов;
• Вопрос: Сколько электронов находятся в полупроводнике в TE?
Ответ: Зависит от положения EF
• Почему?
Потому, что EF определяет вероятность того, что состояния заняты электронами.
• Чем ближе EF к краю зоны проводимости, тем больше электронов находится в зоне проводимости.
[pic3.1]
• Если EF находится недостаточно близко к краю зоны проводимости, какова связь между положениями E и n?
[pic3.2]
Поскольку высокая энергия на конце распределения Ферми-Дирака - в виде экспоненциальной функции с kT в качестве характеристики энергии.
Формально, не полученные добавлением концентрации электронов в зону проводимости:
[pic3.3]
При определенном уровне энергии, no(E) получен из плотности CB в состояниях и вероятности захвата:
[pic3.4]
Тогда:
[pic3.5]
Соотнесем распределение энергии к Ec и проведем нормализацию к kT. Таким образом:
[pic3.6]
Тогда:
[pic3.7]
Определим также:
[pic3.8]
Nc ≡ эффективная плотность состояний зоны проводимости (см^-3)
Для Si равного 300 K, Nc ~= 2,9*19^19 см^-3.
Тогда:
[pic3.9]
где:
[pic3.10]
F1/2(x) - это интеграл Ферми, где 1/2 - порядок
Интеграл Ферми порядка 1/2:
[pic3.11]
Основной ответ:
[pic3.12]
ηc ↑⇒ увеличивается EF с учетом Ec ⇒ no ↑
Два режима в no:
Не-понижающий режим
Приближение к F1/2(x) для низких значений x:
[pic3.13]
Тогда, если [pic3.14]
Простая экспоненциальная связь, когда уровень Ферми достаточно ниже края зоны проводимости.
[pic3.15]
Можно получить такой же результат с использованием статистики Маквелла-Бользмана для f(E).
Понижающий режим:
Более сложное поведение функции F1/2(x) для высоких значений x(см. Раздел для Продвинутых AT2.3).
Понижающий полупроводник в случае, если [pic3.16]
Распределение электронов в зоне проводимости сильно отличается от не-понижающего режима:
[pic3.17]
Без учета понижаемого режима построения в 6.720, поскольку это усложняет [см. AT2.6 в приложениях]
2. Концентрация равновесных дыр
Вопрос: сколько дыр находятся в полупроводнике в TE?
Ответ: зависит от положения EF.
Почему? Потому, что EF определяет вероятность, что состояния заняты электронами.
Чем ближе EF к краю зоны валентности, тем больше дыр находится в зоне валентности.
[pic3.18]
Если EF не слишком близко к краю зоны валентности, какая связь между положениями E и p?
[pic3.19]
Поскольку высокоэнергетическое окончание распределения Ферми-Дирака экспоненциально к kT в качестве характеристики энергии.
Формально, po получено интегрированием концентрации дыр в зону валентности:
[pic3.20]
При определенном уровне энергии, po(E) получено из временной вероятности VB DOS о том, что состояние пусто.
[pic3.21]
Продолжим как с электронами. Определим:
[pic3.22]
Nv ≡ эффективная плотность состояний зоны валентности (см^-3)
Для Si равного 300 K, Nv ~= 3,1*10^19 см^-3
Тогда:
[pic3.23]
Графики двух режимов:
[pic3.24]
Внимание! Этот перевод, возможно, ещё не готов.
Его статус: идёт перевод
Переведено на Нотабеноиде
http://notabenoid.org/book/62656/304824
Переводчики: Tvord
Настройки
Готово:
